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SK hynix 官宣 HBM4 12 层量产、16 层客户认证,正面回应延期传闻
SK hynix 于 8 月 23 日(美国当地时间)正式宣布,第 6 代高带宽内存 HBM4 的 12 层产品已进入量产,16 层产品进入客户认证(qualification)阶段。
韩国 报道称,这是 SK hynix 首次明确 16 层产品已推进到客户认证阶段,这一宣布同时驳斥了因 Nvidia 要求设计变更导致供应延期的传闻。
宣布场合是硅谷的 Hot Chips 2026 大会。SK hynix America 封装工程副总裁 Lee Jae-sik 在题为 "Advanced Packaging for High Bandwidth Memory" 的演讲中给出上述进度, 与现场报道的 记下的是同一口径:12 层在产、16 层认证中。
12 层量产、16 层认证,SK hynix 首次给准信
MK 点出这次宣布的两层含义:重申 12 层量产在正常推进,同时明确 16 层已进入客户认证阶段。The Korea Herald 称之为关于 16 层认证进度的"首次具体确认"(first concrete confirmation)。
演讲先从 HBM 本身讲起:HBM 是 3D 堆叠结构,一块 base die 上叠最多 16 片 core die,GPU 与 HBM 一起放在硅中介层(silicon interposer)上构成 2.5D 封装,两者通过 1024 个 I/O、16 个通道通信。
演讲展示的 HBM4 概览幻灯片直接标注了"12 层在产、16 层认证中"(12Hi in Production, 16Hi under Qual)。
同一张幻灯片列出的 HBM4 指标包括:最高 48GB 容量、12.8×11 毫米封装、775 微米 Z 高度、超过 2 万颗 TSV、16148 个基片微凸块、超过 2TB/s 带宽,以及比 HBM3E 提升 40% 以上的功耗效率。
延期传闻从哪来:缺陷重做与 11 Gbps 目标
SK hynix 的 HBM4 自去年起就传闻缠身。2025 年末有报道称,已开发出来的产品被发现缺陷,公司被迫从头重新设计;随后又传出,Nvidia 把下一代 Rubin GPU 所用 HBM4 的性能目标从 8–10 Gbps 提高到 11 Gbps,拖慢了 SK hynix 的 HBM4 认证。
MK 的概括是:因应 Nvidia 性能提升要求的设计变更,可能导致供应日程延期的传闻一度困扰 SK hynix。
这些传闻在今年 6 月平息了大半。6 月 5 日,Nvidia CEO Jensen Huang 与韩国媒体见面时说,三星电子、SK hynix、美光三家供应商都通过了 HBM4 认证测试。此后的二季度财报电话会上,SK hynix 表示已从二季度开始向主要客户供应 HBM4 量产产品,良率与品质接近上代 HBM3E 的成熟水平,供应能力在稳步爬坡。
Hot Chips 上的宣布直接回应了传闻:12 层量产照常推进,16 层的认证也已经启动。按 SK hynix 的宣布,传闻所指的认证停滞并不存在。
从 1024 到 2048 个 I/O:HBM4 带宽翻倍
SK hynix 在演讲中给出的带宽演进线是:HBM2E 每秒 460GB,HBM3 717GB,HBM3E 1024GB,HBM4 翻倍到 2048GB/s,I/O 数量同步翻倍到 2048 个。带宽翻倍换来的是封装复杂度上升,HBM4 的 TSV 和微凸块数量都多于上一代。
die-to-die 堆叠有两条主流键合路线。热压键合加非导电膜(TC+NCF)产能高、热阻低,但对芯片翘曲敏感;mass reflow 加模塑底部填充(MR+MUF)更能容忍薄 die 翘曲,代价是热阻更高、填充窗口更窄。
组装环节,SK hynix 跑完整的晶圆级流程,并在进入系统级封装前用 known-good stacked die(KGSD)环节先测试每一颗堆叠好的 cube,避免坏片占用昂贵的中介层面积。
SK hynix 还提到一个系统级变化:过去内存是系统集成流程里最后组装的部件,在 AI 先进封装中,HBM 变成最先组装的部分,堆叠好的 cube 和中介层因此在后续封装完成前就承受更强的可靠性压力。
此外,SK hynix 给出的成本论点是:虽然 HBM 每 GB 单价更高,但更宽的 HBM 用量能省下空间、功耗和运营成本。
没有凸块的键合,通向 20 层以上
16 层要付出的封装代价,SK hynix 在 HBM3E 时代就摊开过一次:为了在 12 层基础上再多叠两片 die,芯片厚度、层间间隙高度和凸块间距被砍掉大约一半。堆到 20 层以上时,热管理会成为硬约束。
SK hynix 押注的答案是混合键合(hybrid bonding):芯片在室温下拾取、放置,随后在 200°C 以上退火,形成 SiO₂ 对 SiO₂、Cu 对 Cu 的键合,传统方案里的凸块和填隙材料被整个去掉。
Lee Jae-sik 的说法是,混合键合让 DRAM die 在同样的总高度里可以做得更厚,同时把凸块间距压到 18 微米以下,MR-MUF 做不到这一点,性能与热效率同时改善。
Lee 把 HBM 性能提升归结为两个抓手:"一个是扩展数据 I/O——增加数据流经的引脚数量、提高单个 I/O 的速度来拓宽带宽;另一个是通过逻辑 die 和更多 TSV 改善功耗效率。"
散热方面,SK hynix 展示了 i-HBM 方案:在 die-to-die 的 PHY 区域嵌入高导热、电绝缘的冷却部件,目标是把热阻降低 30% 以上;对比之下,三星的 HPB 用铜散热片把 DRAM 移到处理器旁,美光则优化基 die 电路设计。
三星看淡 16 层,SK hynix 抢先认证
同在 HBM4 赛道上的三星电子走的是另一条路线。今年 1 月的 2025 年四季度财报电话会上,三星称客户对 16 层 HBM4 的需求"非常有限"(very limited),考虑到今年计划送样同等容量的 12 层 HBM4E,三星认为没有必要把 16 层版本推向量产。
但三星补充说,已掌握 16 层封装量产级技术,客户需求变化时可以随时应对。
SK hynix 的 16 层产品今年 1 月在 CES 2026 首次公开原型,当时的说法是"按客户日程顺利推进";8 月 23 日,这个说法落成了具体进度:进入客户认证阶段。
认证通过不等于开始量产,16 层何时从认证走向出货仍取决于客户日程。三星的"需求有限"和 SK hynix 的抢先认证,把 HBM4 16 层之争的分歧摆到了台面上。